Rīga, 2014. gada 13.maijs. – Šodien Rīgā oficiālā vizītē ieradīsies ASV Valsts sekretāra vietnieks publiskās diplomātijas jautājumos Ričards Stengels. Vizīte laikā Stengels tiksies ar Latvijas valdības un masu mediju pārstāvjiem, kā arī ASV valdības programmu dalībniekiem, uzrunās studentus Rīgas Stradiņa universitātē (RSU), kā arī apmeklēs Latvijas Nacionālās bibliotēkas jauno ēku. Šī ir Stengela pirmā vizīte Eiropā, pārstāvot ASV Valsts departamentu. Eiropā viņš apmeklēs trīs valstis, Rīgā ierodoties no Kijevas un no Rīgas izlidojot uz Briseli.
14. maijā no plkst. 10:45 līdz 11:30 Ričards Stengels tiksies ar studentiem un citiem interesentiem RSU Hipokrāta auditorijā Dzirciema ielā 16. Tikšanās laikā Stengels stāstīs par publisko diplomātiju un ASV–Latvijas attiecībām, kā arī dalīsies pieredzē par mediju lomu starptautiskajās attiecībās un atbildēs uz jautājumiem. Tikšanās notiks angliski, tās moderators būs žurnālists Edijs Bošs. Dalībnieki tiek lūgti ierasties Hipokrāta auditorijā ne vēlāk par plkst. 10:30. Tikšanās video tiks straumēts internetā, RSU Youtube kanālā: http://goo.gl/eMOEQQ.
ASV Valsts sekretāra vietnieks publiskās diplomātijas jautājumos Ričards Stengels veido globālās stratēģijas visām Valsts departamenta publiskās diplomātijas un publisko attiecību programmām un pārrauga ASV Valsts departamenta Izglītības un kultūras biroja, Starptautisko informācijas programmu biroja, Publisko attiecību biroja un Stratēģisko pretterorisma komunikāciju centra darbību.
No 2006. līdz 2013. gadam Ričards Stengels bija žurnāla TIME galvenais redaktors. Stengels ir pasniedzis Prinstonas universitātē, kā arī sarakstījis vairākas grāmatas un daudzas publikācijas. No 1992. līdz 1994. gadam Stengels kopā ar Nelsonu Mandelu strādāja pie Mandelas autobiogrāfijas „Ilgais ceļš uz brīvību”, kā arī bija Oskaram nominētās dokumentālās filmas „Mandela” producents. 2012. gadā Stengels saņēma Emmy balvu par izpilddproducenta darbu pie TIME dokumentālās filmas par 2011. gada 11. septembra notikumiem „Beyond 9/11: Portraits of Resilience”.
